Product type
應用范圍：
半導體芯片行業、太陽能光伏、LED等行業的薄膜沉積
產品特點：
特別設計的氣體分布和流場，反應壓強自動控制系統。保證沉積的均勻和穩定，滿足有源層和鈍化層對薄膜低缺陷和良好界面的要求。
CVD系統參考選型
LPCVD | MOCVD | PECVD | |
極限真空度 |
5X10-3Pa | ||
電源 | 無 | 無 | RF |
前驅體 | 氣體或液體 | MO源 | 特氣 |
基片溫度 | 200℃-- -800℃ | 300℃-- -1500℃ | 常溫-- -600℃ |
尾氣處理 | 燃燒達標后排放或回收 | ||
系統控制 | SIEMENS PLC系統，PROFIBUS通訊 |
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